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日立超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000
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日本
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超高分辨率场发射扫描电子显微镜 SU9000

专门为电子束敏感样品和需**300万倍稳定观察的先进半导体器件,高分辨成像所设计。

特点

  • 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

    0.4nm / 30kV (SE)

    1.2nm / 1kV (SE)

    0.34nm / 30kV (STEM)

  • 用改良的高真空性能和****的电子束稳定性来实现高效率截面观察。

  • 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

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